集成电路制造技术 共有8条记录 共耗时[0.000]秒
页码:1/1    每页显示:10 记录 跳转:
  • 正在加载图片,请稍后......

    MOS集成电路结构与制造技术:潘桂忠

    作者:潘桂忠 出版社:上海科学技术出版社 出版时间:2010 ISBN:978-7-5323-9990-1
    索书号:TN432/8 分类号:TN432 页数:434页 价格:68.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书利用集成电路剖面结构技术、系统地介绍MOS集成电路结构和典型集成电路制造技术, 包括PMOS (E/E型、E/D型) 、CMOS (P-Well、N-Well、Twin-Well) 等。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    现代集成电路制造技术原理与实践:李惠军

    作者:李惠军 出版社:电子工业出版社 出版时间:2009 ISBN:978-7-121-07753-1
    索书号:TN405/3 分类号:TN405 页数:XIII, 435页 价格:49.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书共18章, 主要内容包括: 硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜汽相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真、集成结构测试图形等。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    集成电路制造技术: 原理与工艺:王蔚, 田丽, 任明远

    作者:王蔚, 田丽, 任明远 出版社:电子工业出版社 出版时间:2010 ISBN:978-7-121-11751-0
    索书号:TN405/8 分类号:TN405 页数:395页 价格:39.80
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书主要内容包括: 绪论 ; 单晶硅特性 ; 硅片的制备 ; 外延 ; 热氧化 ; 扩散 ; 离子注入 ; 化学气相淀积 ; 物理气相淀积 ; 光刻工艺 ; 光刻技术 ; 刻蚀技术等。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    集成电路芯片制造实用技术:卢静

    作者:卢静 出版社:机械工业出版社 出版时间:2011 ISBN:978-7-111-34458-2
    索书号:TN405-43/1 分类号:TN405-43 页数:VIII, 214页 价格:27.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书以集成电路芯片的制造工艺流程为主线,涵盖了集成电路芯片制造的主要技术。全书共分9章,内容包括概述、硅晶圆制程、硅晶薄膜制备、氧化工艺、掺杂工艺、光刻工艺、刻蚀制程、芯片封装、集成电路芯片品检。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    集成电路制造工艺技术体系:严利人, 周卫

    作者:严利人, 周卫 出版社:科学出版社 出版时间:2017 ISBN:978-7-03-050157-8
    索书号:TN405/11 分类号:TN405 页数:x, 239页 价格:98.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书从三方面来系统地论述集成电路的制造技术。首先是制造对象, 对于工艺结构及结构所对应的电子器件特性进行了深入的分析与揭示。其次是生产制造本身。详细讨论集成电路各单步作用的本质性特征及各不同工艺技术在成套流程中的作用 ; 讨论了高端制造的组织, 调度和管理, 工艺流程的监控, 工艺效果分析与诊断等内容。最后是支撑半导体制造的设备设施。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    半导体集成电路制造技术:张亚非

    作者:张亚非 出版社:高等教育出版社 出版时间:2006 ISBN:7-04-018299-8
    索书号:TN430.5/4 分类号:TN430.5 页数:390页 价格:48.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书根据半导体集成电路的基本原理和内部结构以及版图设计, 通过半导体材料制备、化学清洗、薄膜沉积、NP掺杂、光刻、金属化处理、生产整合与自动化等工艺整合, 讲解集成电路的制造技术。
    详细信息
    索书号 展开
  • 正在加载图片,请稍后......

    集成电路制造技术:杜中一

    作者:杜中一 出版社:化学工业出版社 出版时间:2016 ISBN:978-7-122-26284-4
    索书号:TN405/14 分类号:TN405 页数:172页 价格:35.00
    复本数: 在馆数:
    累借天数: 累借次数:
    本书全面系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括: 集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。
    详细信息
    索书号 展开
集成电路制造技术 共有8条记录 共耗时[0.000]秒
页码:1/1    每页显示:10 记录 跳转: