返回检索首页
我的图书馆登录
书 名
作 者
分类号
ISBN
索书号
主题词
出版社
任意词
每页显示
10
20
50
排序选项
排序方式
出版日期
索书号
出版社
排序方式
降序排列
升序排列
李惠军
共有
4
条记录
共耗时[0.000]秒
页码：
1
/
1
每页显示：
10
记录
跳转：
现代景观设计表现技法
:李惠军, 张璟
作者：
李惠军, 张璟
出版社：
上海人民美术出版社
出版时间：
2008
ISBN：
978-7-5322-5568-9
索书号：
TU986.2/55
分类号：
TU986.2
页数：
127页
价格：
38.00
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书根据高等院校景观设计专业的学生需求，由本专业教授和资深教师而著的辅导教材，着力打造理论与方法，案例与评析相结合，以设计的角度理解表现，以效用为目的来学习技法。
详细信息
索书号
展开
现代集成电路制造技术原理与实践
:李惠军
作者：
李惠军
出版社：
电子工业出版社
出版时间：
2009
ISBN：
978-7-121-07753-1
索书号：
TN405/3
分类号：
TN405
页数：
XIII, 435页
价格：
49.00
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书共18章, 主要内容包括: 硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜汽相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真、集成结构测试图形等。
详细信息
索书号
展开
现代集成电路制造工艺原理
:李惠军
作者：
李惠军
出版社：
山东大学出版社
出版时间：
2007
ISBN：
978-7-5607-3331-9
索书号：
TN405/7
分类号：
TN405
页数：
295页
价格：
30.00
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书围绕当代集成电路制造的基础工艺, 重点介绍所涉及的基本原理, 并就当前集成电路芯片制造技术的最新发展作了较为详尽的阐述。内容主要包括: 硅材料及衬底制备 ; 外延生长工艺原理 ; 氧化介质薄膜生长 ; 半导体的高温掺杂 ; 离子注入低温掺杂 ; 薄膜气相淀积工艺 ; 图形光刻工艺原理 ; 掩模制备工艺原理等。
详细信息
索书号
展开
海南火山石传统村落
:李惠军, 陈德雄
作者：
李惠军, 陈德雄
出版社：
上海交通大学出版社
出版时间：
2016
ISBN：
978-7-313-14322-8
索书号：
K926.61/1
分类号：
K926.61
页数：
235页
价格：
78.00
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书试图从规划、建筑、景观等综合的建成环境视角, 在筑梦“守望故乡”的时代中, 通过文字与图像, 记载并追寻属于海南本土空间的、特定的文化记忆。
详细信息
索书号
展开
缩小检索范围
文献类型
中文图书
(
4
)
出版社
上海交通大学出版社
(
1
)
上海人民美术出版社
(
1
)
山东大学出版社
(
1
)
电子工业出版社
(
1
)
只显示前10条......
上海交通大学出版社
(
1
)
上海人民美术出版社
(
1
)
山东大学出版社
(
1
)
电子工业出版社
(
1
)
查看更多信息......
作者
李惠军
(
2
)
李惠军, 张璟
(
1
)
李惠军, 陈德雄
(
1
)
只显示前10条......
李惠军
(
2
)
李惠军, 张璟
(
1
)
李惠军, 陈德雄
(
1
)
查看更多信息......
出版年
2007
(
1
)
2008
(
1
)
2009
(
1
)
2016
(
1
)
只显示前10条......
2007
(
1
)
2008
(
1
)
2009
(
1
)
2016
(
1
)
查看更多信息......
李惠军
共有
4
条记录
共耗时[0.000]秒
页码：
1
/
1
每页显示：
10
记录
跳转：